水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。

反滲透裝置是將原水經過精細過濾器、顆?；钚蕴歼^濾器、壓縮活性碳過濾器等,再通過泵加壓，利用孔徑為1/10000μm（相當于大腸大小的1/6000，的1/300）的反滲透膜（RO膜），使較高濃度的水變為低濃度水，同時將工業污染物、重金屬、、等大量混入水中的雜質全部隔離，從而達到飲用規定的理化指標及衛生標準，產出至清至純的水，是人體及時補充水份的選擇。由于RO反滲透技術生產的水純凈度是目前人類掌握的一切制水技術中高的，所以人們稱這種產水機器為反滲透純凈水機。
反滲透裝置應用膜分離技術，能有效地去除水中的帶電離子、無機物、膠體微粒、及有機物質等。是高純水制備、苦咸水脫鹽和廢水處理工藝中的設備。廣泛用于電子、、食品、輕紡、化工、發電等領域。
反滲透技術因具有的優越性而得到日益廣泛的應用。反滲透凈水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透裝置的管理，就可以避免出現嚴重的問題。

貴州反滲透純水工藝流程
原水－原水加壓泵－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器（或阻垢加藥裝置）－精密過濾器－級反滲透 －PH調節－中間水箱（可選）－第二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－ 微孔過濾器－用水點
純水功能介紹
多介質過濾器
多介質過濾罐大多填充石英砂、無煙煤和錳砂等濾料。其作用主要是降低水濁度，并且可以去除水中的大量、、有機物等。從而為后續的消毒工序創造了有利條件。錳砂對鐵、錳的去除效果顯著。
活性炭過濾器
活性炭具有大量的微孔和巨大的比表面積，具有極強的物理吸附能力。能夠十分有效的吸附水中雜質，尤其是有機物和微生物?；钚蕴勘砻嫘纬傻暮醮呋趸突瘜W吸附的功能，可以去除一部分水中的金屬離子?；钚蕴繉λ猩写娴挠嗦扔袠O強的吸附作用，以保護下游的不銹鋼設備及管道表面和滿足后序水處理單元的入水要求。
自動反沖、再生軟化罐
軟化罐內填充鈉型陽離子交換樹脂。克通過樹脂的離子交換反應，降低水的硬度，防止鈣、鎂離子與碳酸根、硫酸根離子結合，在后序水處理設備或管道中結垢。
精密過濾器
精密過濾器又稱保安過濾器，過濾精度一般為5μm。其作用在于截留一切粒徑大于5μm的物質，以滿足反滲透的入水要求。
反滲透
反滲透技術應用的關鍵在于起除鹽作用的反滲透膜的性能。反滲透膜是一種只允許水分子通過而不允許溶質透過的半通透膜。反滲透技術除了應用反滲透和反滲透的原理外，還利用了膜的選擇吸附和針對有機物的篩分機理。反滲透膜的孔徑大多小于等于10×10-10m，其分離對象為溶液中處于離子范圍和分子量為幾百左右的有機物。它能濾除各種，如小的綠膿（3000×10-10m），也能濾除各種，如流感（800×10-10m）,腦膜炎（200×10-10m），還能濾除熱原（10~500×10-10m）。這是制藥用水十分關注的問題。
由于反滲透的操作工藝簡單、除鹽效率高，使用在制藥工藝用水中，還具有較高的除熱原能力，而且也比較經濟，成為制藥用水工藝中的水處理單元。反滲透技術不僅使用于純化水的制備工藝過程中，使用反滲透法還可制造具有用水質量的水，《美國藥典》從十九版開始已收載此法為制備用水的法定方法
殺菌系統
A、 氧和紫外線有序結合用于消毒/滅菌。臭氧是一種強氧化劑，它的氧化能力在元素中僅次與氟，位居第二。臭氧能氧化分解內部氧化葡萄糖所必需的葡萄糖氧化酶等，也可以直接與、發生作用，破壞、核糖核酸，分解DNA、RNA、蛋白質、脂質類和多糖等大分子聚合物，使的物質代謝生長和繁殖過程遭到破壞。在水處理中對除嗅、脫色、殺菌、去除酚、氰、鐵、錳和降低COD、BOD等都具有顯著的效果。紫外線能降低水系統的預處理系統中新菌落的生成速率，位于臭氧之后的254nm紫外燈可同時用于消毒和清除臭氧的殘留。
B、 循環回流以防止滋生。在純化水系統中的預處理系統、制水系統和用水系統分別設有循環水路，在節假日或晚間不用水時；純化水罐水滿時；出水電導率超標時，各系統內的水保持一定的程度的循環，必要時再輔以紫外或臭氧/紫外殺菌以防止滋生。
應用領域
純化水設備主要應用于大輸液、制劑、生物制劑等的生產用水工程、滲透析等用水。

反滲透純水設備
詳情說明
產品參數：
型號：定制
產水量：0.25~200T/H(根據客戶需求而定)
進水水質：自來水、井水、地下水、中水（達標排放廢水）
純水水質：符合客戶要求的純水水質
電導率范圍：0.1μs/cm--10μs/cm
電阻率范圍：0.5MΩ.cm--18.2MΩ·cm
控制：全自動控制/手自一體化自動切換
反滲透純水設備簡介：
純水設備是用于工業生產用水水的純水制取裝置，根據客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產用純水的標準。純水設備系統采用反滲透水處理工藝，包含：原水泵、多介質過濾器、活性炭過濾器、軟水器、過濾器、反滲透主機、紫外殺菌器/臭氧殺菌器、純水箱等。
反滲透純水設備特點：
1.根據項目原水特征，結合已有的經驗，在確保出水達標的前提下，采用成熟、可靠工藝；
2.系統運行要求低能耗、低費用；
3.系統設備采用實現標準化、模塊化和系統化的設計方式，以便快速安裝和以后系統維護；
4.設備選型經濟合理、節能，較大可能地減少維修費用為原則；
5.自動化控制設備以及主要檢測儀器；
6.方案設計合理、運行穩定、產水的品質滿足設計要求，并已在多項類似工程中得到應用及檢驗。
反滲透純水設備應用范圍：
1.化妝品行業:
護膚品生產用純水、洗發水生產用純水、染發劑生產用純水、牙膏生產用純水 、洗手液生產用水。
2.食品、飲料、純凈水行業：
食品生產用水和飲料生產用水以及純凈水的生產
3.電子工業：
鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。
4.電池行業：
蓄電池生產用純水、鋰電池生產用純水、太陽能電池生產用純水。
5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。
6.紡織印染工業：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。
7.超聲清洗用純水
8.涂裝行業：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。
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